蘇州大學(xué)革屠,唯一通訊單位發(fā)Nature

繼2024年03月04日镊讼,蘇州大學(xué)作為聯(lián)合單位發(fā)Nature之后题翻,今日蘇州大學(xué)再以第一且唯一通訊單位發(fā)Nature揩徊。

基于鈣鈦礦量子點(diǎn)(QDs)的發(fā)光二極管(LEDs)在窄帶發(fā)射下產(chǎn)生了超過25%的外部量子效率(EQEs),但這些LEDs的工作壽命有限嵌赠。

假設(shè)鈣鈦礦QD薄膜中較差的長(zhǎng)程有序——點(diǎn)尺寸塑荒、表面配體密度和點(diǎn)對(duì)點(diǎn)堆疊的變化——抑制了載流子注入,導(dǎo)致運(yùn)行穩(wěn)定性較差姜挺,因?yàn)樵谶@些LEDs中產(chǎn)生發(fā)射所需的大偏壓齿税。

在此,來自蘇州大學(xué)的廖良生等研究者報(bào)告了一種化學(xué)處理來改善鈣鈦礦QD薄膜長(zhǎng)程有序:來自重復(fù)QD單元的衍射強(qiáng)度對(duì)照增加了三倍炊豪。相關(guān)論文以題為“Long-range order enabled stability in quantum dot light-emitting diodes”于2024年05月08日發(fā)表在Nature上凌箕。

基于磷化銦量子點(diǎn)的LEDs和有機(jī)LEDs (oLEDs)在許多軸上都取得了令人印象深刻的性能,但在全寬度最大的一半(FWHM>35 nm)時(shí)受到寬發(fā)射光譜的影響词渤。金屬鹵化物鈣鈦礦膠體量子點(diǎn)(QDs)的FWHM較窄(<30 nm)陌知,在FWHM約為30 nm時(shí),在紅色波長(zhǎng)產(chǎn)生了高達(dá)25.8%的EQEs掖肋。

然而仆葡,這個(gè)冠軍EQE是在低于10 cd m?2的亮度下實(shí)現(xiàn)的,而實(shí)際應(yīng)用(手機(jī)或電腦屏幕)通常需要高達(dá)1000 cd m?2的亮度。此外沿盅,鈣鈦礦LEDs在初始亮度為1,000 cd m?2時(shí)的工作半衰期到目前為止僅限于幾分鐘把篓,阻礙了顯示器的商業(yè)前景。

LED的穩(wěn)定性由TX來定義腰涧,在連續(xù)的外部偏置(Vex)下韧掩,LED的亮度從初始亮度(L0)下降到L0的X%所花費(fèi)的時(shí)間。在這方面窖铡,LED的穩(wěn)定性取決于厚度和外部偏置疗锐,因?yàn)樗鼈儧Q定了發(fā)射材料所經(jīng)歷的電場(chǎng)。將發(fā)射層厚度增加到1.5μm以降低Vex nm?1费彼,可以提高綠色鈣鈦礦LEDs的穩(wěn)定性滑臊。

然而,這種方法僅限于特定的體系箍铲,并不適用于紅色鈣鈦礦量子點(diǎn)雇卷,因?yàn)樗枰獜?fù)雜的溫度和襯底控制才能產(chǎn)生完美的單晶發(fā)射層。

對(duì)于鈣鈦礦LED材料(量子點(diǎn)或準(zhǔn)二維薄膜)來說颠猴,在延長(zhǎng)工作穩(wěn)定性的低雜化與提高電流密度和滿足實(shí)際亮度水平的高雜化之間存在權(quán)衡关划。

盡管許多研究關(guān)注于低亮度水平的穩(wěn)定性,通常測(cè)量的穩(wěn)定性低至T50翘瓮,但對(duì)于現(xiàn)實(shí)世界的應(yīng)用贮折,在約1,000 cd m-2的操作亮度下維持10%亮度損失(T90)所花費(fèi)的時(shí)間更為重要,因?yàn)槭謾C(jī)和電腦屏幕需要高達(dá)約1,000 cd m-2, 10%的亮度損失將被認(rèn)為是有缺陷的资盅。因此调榄,研究者專注于開發(fā)在低雜化下具有高亮度的鈣鈦礦LEDs,以證明在1,000 cd m?2下T90的穩(wěn)定性律姨。

由于其快速的成核和生長(zhǎng)速度振峻,鈣鈦礦量子點(diǎn)傾向于形成不同尺寸和不同配體覆蓋的量子點(diǎn)臼疫。這導(dǎo)致薄膜中的無序排列择份,表現(xiàn)出低電導(dǎo)率和大載流子注入障礙(圖1)。在低注入密度下烫堤,這些薄膜仍有可能產(chǎn)生高EQEs荣赶,但產(chǎn)生實(shí)際亮度所需的大電場(chǎng)會(huì)誘導(dǎo)破壞性離子遷移;向具有高電阻的發(fā)射層注入大電流會(huì)產(chǎn)生額外的熱量,進(jìn)一步加速降解鸽斟。

圖1 長(zhǎng)程有序控制策略

以前改善長(zhǎng)程序封裝的策略是在高極性溶劑(DMF)的幫助下交換鈣鈦礦量子點(diǎn)拔创,這在研究者之前的藍(lán)色和紅色LEDs的工作中是有效的,但是這種高極性溶劑的引入會(huì)損害鈣鈦礦量子點(diǎn)的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性并損害操作穩(wěn)定性富蓄。在最近的一項(xiàng)關(guān)于單層藍(lán)色鈣鈦礦LEDs的研究中剩燥,研究者證明了反應(yīng)性鹵化物三甲基硅烷(TMS-X)通過原位產(chǎn)生HX酸來實(shí)現(xiàn)有序薄膜的鈍化和長(zhǎng)期有序。

在此,研究者報(bào)告了一種協(xié)同雙配體方法實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的紅色鈣鈦礦LEDs灭红。研究者使用富碘劑(AnHI)進(jìn)行陰離子交換和鈍化全無機(jī)CsPbBr3量子點(diǎn)侣滩,并使用化學(xué)反應(yīng)劑(溴三甲基硅烷;TMSBr)調(diào)節(jié)大小和表面配體的長(zhǎng)程順序。TMSBr的液體性質(zhì)確保了與表面友好的非極性溶劑的混溶性变擒,并與質(zhì)子試劑(親核反應(yīng))在溶液中產(chǎn)生強(qiáng)酸(HBr)君珠,這種強(qiáng)酸可以溶解配體覆蓋率低的量子點(diǎn)。此外娇斑,TMSBr是一種短的(三個(gè)碳原子)配體策添,因此可以產(chǎn)生高效LEDs所需的高導(dǎo)電性QD薄膜(圖1)。

圖2 不同配體處理下的長(zhǎng)程有序行為毫缆。

圖2a-圖2i通過一系列實(shí)驗(yàn)和計(jì)算方法詳細(xì)描述了雙配體處理對(duì)量子點(diǎn)(QD)薄膜的光譜特性唯竹、尺寸分布、陷阱密度悔醋、電導(dǎo)率和晶體有序性的影響摩窃。

圖2a展示了經(jīng)過TMSBr處理的薄膜與原始和對(duì)照薄膜相比,表現(xiàn)出約7納米的紅移芬骄,表明了更強(qiáng)的點(diǎn)對(duì)點(diǎn)相互作用猾愿。處理后的薄膜顯示出28納米的全寬半高(FWHM),比原始和對(duì)照薄膜窄約10納米账阻,這表明TMSBr處理通過去除小尺寸量子點(diǎn)改善了尺寸分布蒂秘。

圖2b通過激發(fā)依賴的光致發(fā)光量子產(chǎn)率(PLQY)測(cè)量,研究了薄膜的陷阱密度淘太。處理后的量子點(diǎn)薄膜在約0.5 mW cm-2的激發(fā)功率下顯示出約86%的最大PLQY姻僧,而原始和對(duì)照薄膜的PLQY分別較低,分別為52%和74%蒲牧。處理后的薄膜在更高的激發(fā)功率下顯示出更高的PLQY撇贺,表明其具有更好的穩(wěn)定性。

圖2c通過構(gòu)建場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET)來確定薄膜的電導(dǎo)率冰抢。AnHI/TMSBr處理的薄膜的電導(dǎo)率是控制和原始薄膜的3.6倍和10倍以上松嘶。

圖2d-i通過掠入射廣角X射線散射(GIWAXS)和掠入射小角X射線散射(GISAXS)研究了雙配體處理對(duì)薄膜有序性的影響。處理后的薄膜在GISAXS模式中顯示出更明顯的衍射強(qiáng)度增加挎扰,表明了更好的長(zhǎng)程有序性翠订。GIWAXS模式顯示,處理后的薄膜在薄膜內(nèi)呈現(xiàn)出連續(xù)的遵倦、高度有序的排列模式尽超,其散射強(qiáng)度是對(duì)照薄膜的六倍。

這些結(jié)果表明梧躺,雙配體處理能夠顯著提高量子點(diǎn)薄膜的光學(xué)和電子性能似谁,以及晶體的長(zhǎng)程和短程有序性。

圖3 表面配體研究的核磁共振光譜。

圖3a通過1H NMR光譜研究了TMSBr對(duì)量子點(diǎn)(QDs)重新表面化的影響巩踏。原始QDs斜筐、帶有AnHI配體的對(duì)照QDs以及用AnHI/TMSBr處理的QDs在去氘甲苯中分散后進(jìn)行檢測(cè)。當(dāng)使用對(duì)照配體交換時(shí)蛀缝,烯氫的化學(xué)位移信號(hào)強(qiáng)度降低了約60倍顷链。對(duì)于用AnHI/TMSBr處理的QDs,這些信號(hào)幾乎完全消失屈梁,表明TMSBr有效地去除了原始的油酸配體嗤练,導(dǎo)致更有序的薄膜。

圖3b中的FTIR光譜進(jìn)一步證實(shí)了油酸配體的顯著減少在讶,這支持了NMR的結(jié)果煞抬。處理后的QDs溶液中僅觀察到來自TMSBr甲基基團(tuán)的-CH3信號(hào),這表明TMSBr成功地對(duì)QDs進(jìn)行了表面鈍化和重新表面化构哺。

圖3c可能展示了處理后的QDs薄膜的光致發(fā)光量子產(chǎn)率(PLQY)與原始和對(duì)照QDs薄膜的比較革答,其中處理后的薄膜展現(xiàn)出更高的PLQY,這與NMR和FTIR的結(jié)果一致曙强,表明TMSBr處理改善了QDs的光學(xué)性質(zhì)和薄膜的長(zhǎng)程有序性残拐。

圖4 LED性能和工作穩(wěn)定。

圖4a展示了LED的層狀結(jié)構(gòu)碟嘴。通過使用NiOx:SAM (4-CF3-BA)作為HIL溪食,可以降低HIL和活性層之間的電荷注入勢(shì)壘。通過透射電子顯微鏡(TEM)確定了每層的厚度娜扇。

圖4b所示错沃,所得到的LED在電流密度為1-90 mA cm-2的范圍內(nèi)顯示出穩(wěn)定的電致發(fā)光,沒有觀察到峰位移動(dòng)或FWHM變化雀瓢。處理后的LED在1000 cd m-2的亮度下展現(xiàn)出創(chuàng)紀(jì)錄的低電壓2.8 V(比之前記錄的鈣鈦礦LED低1.0 V)枢析,并且只需要3.7 V就能產(chǎn)生約5000 cd m-2的亮度。此外刃麸,該LED在約180 cd m-2時(shí)展現(xiàn)出22%的外部量子效率(EQE)和約7000 cd m-2的最大亮度醒叁。這些LED還展現(xiàn)出降低的效率滾降,EQE在1000 cd m-2時(shí)仍保持大約20%嫌蚤。

圖4c-f所示辐益,經(jīng)過200分鐘連續(xù)操作后断傲,LED顯示出穩(wěn)定的電致發(fā)光峰脱吱,F(xiàn)WHM變化可忽略不計(jì)。相比之下认罩,使用對(duì)照QDs的LED展現(xiàn)出較差的EQE和亮度(EQE約為12%箱蝠,最大亮度為3000 cd m-2);原始QD基LED的EQE為5%,最大亮度約為1000 cd m-2宦搬。

圖4g展示了通過優(yōu)化陰極/電子傳輸層(ETL)/鈣鈦礦界面牙瓢,通過比較兩種ETLs(TPBI和CNT2T)來提高LED性能,發(fā)現(xiàn)CNT2T在LED中的表現(xiàn)優(yōu)于TPBI间校。

圖4h測(cè)量了LED的運(yùn)行穩(wěn)定性矾克,通過施加5 mA cm-2的電流密度,得到初始亮度(L0)為1015 cd m-2憔足,并監(jiān)測(cè)了隨時(shí)間變化的亮度胁附。T90壽命(L0降至原始亮度90%的時(shí)間)為500分鐘,是對(duì)照組的16倍(T90為30分鐘)滓彰,并且比之前最好報(bào)告(EQE>20%)在可比初始亮度下的壽命長(zhǎng)100倍控妻。

圖4i通過在不同初始亮度下測(cè)量LED的穩(wěn)定性,計(jì)算加速因子揭绑,并得到了在100 cd m-2下的T90約為780小時(shí)弓候。改進(jìn)的長(zhǎng)程有序性和器件工程——用NiOx/SAM HIL取代PEDOT:PSS,因?yàn)楹笳呔哂懈玫妮d流子注入和傳輸性能及穩(wěn)定性——共同促成了創(chuàng)紀(jì)錄的高穩(wěn)定性他匪。通過對(duì)對(duì)照和處理后的LED器件在電應(yīng)力(連續(xù)電老化1000 cd m-2下30分鐘)前后進(jìn)行飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜(TOF-SIMS)深度剖析菇存,監(jiān)測(cè)離子遷移。對(duì)照LED顯示出溴/碘分布變寬邦蜜,表明離子向相鄰的空穴或電子傳輸層遷移撰筷,而處理后的LED顯示出一致的溴/碘分布,沒有明顯差異畦徘。

綜上所述毕籽,研究者采用雙配體方法合成了鈣鈦礦QD薄膜中量子點(diǎn)的尺寸分布和排列。這使研究者能夠制造緊湊和均勻的有源層薄膜井辆,具有高PLQY和良好的電輸運(yùn)特性关筒。

使用這種鈣鈦礦量子點(diǎn)制成的紅色鈣鈦礦研究者在亮度為1,000 cd m?2時(shí)實(shí)現(xiàn)了創(chuàng)紀(jì)錄的2.8 V低電壓和高工作穩(wěn)定性:在1,015 cd m?2時(shí)T90為500分鐘。

這項(xiàng)工作為增強(qiáng)T90在實(shí)際應(yīng)用(手機(jī))的實(shí)際亮度下的穩(wěn)定性鋪平了道路杯缺,它應(yīng)該激發(fā)更多關(guān)注實(shí)際亮度和耐用性的努力蒸播,反過來,推動(dòng)鈣鈦礦LED產(chǎn)業(yè)更接近廣泛的實(shí)際應(yīng)用萍肆。

【參考文獻(xiàn)】

Wang, YK., Wan, H., Teale, S. et al. Long-range order enabled stability in quantum dot light-emitting diodes. Nature (2024).

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