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  • 半導(dǎo)體光刻工藝之刻蝕——濕法腐蝕

    在濕法腐蝕的過程中,通過使用特定的熔液與需要腐蝕的薄膜材料進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),進(jìn)而除去沒有被光刻膠覆蓋區(qū)域的薄膜。 濕法腐蝕的優(yōu)點(diǎn)是工藝簡單,但是在濕法腐蝕中所進(jìn)行的化學(xué)反應(yīng)沒有特...

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