隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展璧亮,干法刻蝕已經(jīng)成為工藝步驟中不可或缺的重要步驟,由于干法刻蝕對(duì)于薄膜材料具有良好的各項(xiàng)異性和選擇比,使得干法刻蝕在納米級(jí)和微...
?近年來(lái)故慈,電子束光刻的眾多優(yōu)勢(shì)凸顯出來(lái),通過(guò)電子束直寫的形式將圖形直接轉(zhuǎn)移到晶圓上框全,不需掩膜版察绷,直寫線寬最小可達(dá)10 nm,然而這種方法也存在一...
表面分析技術(shù)是一種統(tǒng)稱津辩,指的是利用電子拆撼、光子、離子等與材料表面進(jìn)行相互作用喘沿,分辨范圍從微米級(jí)到納米級(jí)闸度,測(cè)量從表面散射或發(fā)射出來(lái)的各種離子、電子和...
?在感應(yīng)耦合等離子體刻蝕的工藝中莺禁,影響刻蝕形貌的因素很多,如:工藝參數(shù)里有源功率窄赋、RF功率哟冬、流量比、工作壓力忆绰、He壓浩峡、內(nèi)壁溫度。另外错敢,chill...
本篇筆記來(lái)源于日常實(shí)驗(yàn)工作中的某一個(gè)案例。 一、實(shí)驗(yàn)設(shè)備介紹 SUSS紫外光刻機(jī)是設(shè)計(jì)用于實(shí)驗(yàn)室研發(fā)预侯,小批量生產(chǎn)的高分辨率光刻系統(tǒng)致开。SUSS紫外...
超聲清洗是大功率超聲領(lǐng)域中最為普遍,應(yīng)用最為廣泛的清洗方法和應(yīng)用技術(shù)萎馅。超聲清洗不僅清洗效率高双戳、效果好,而且可以對(duì)復(fù)雜零件糜芳、半導(dǎo)體飒货、電子器件進(jìn)行清...
掃描電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope峭竣,簡(jiǎn)稱SEM)塘辅,中文簡(jiǎn)稱掃描電鏡,是介于透射電鏡和光學(xué)顯微鏡之間的一種微...
?電子束光刻有著較高的靈活性和分辨率皆撩,但在實(shí)際應(yīng)用中扣墩,設(shè)計(jì)的圖形與最終曝光得到的圖形都會(huì)存在一定的偏差。造成這一現(xiàn)象的原因有很多扛吞,除了工藝上的影...
研磨拋光是半導(dǎo)體加工過(guò)程中的一項(xiàng)重要工藝呻惕,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體表面進(jìn)行加工, 研磨液滥比、拋光液是影響半導(dǎo)體表面質(zhì)量的重要因素亚脆。 一、簡(jiǎn)析幾種常見的研磨...